説明
炭化ケイ素粉砕ドラムは静水圧プレス成形プロセスを採用し、密度3.09g/cm3、最大φ950mm、ビッカース硬度2550HV。
発熱体への炭化ケイ素セラミック研削ドラムの適用
炭化ケイ素セラミック粉砕バレルは、その重要な導電特性により、リチウム電池の正極材料の原料となっています。SiC 発熱体は SiC 材料の重要な製品であり、幅広い市場見通しを持っています。
炭化ケイ素研削バレルの利点
(1) 機械的強度が高く、
機械的強度が高いと材料の変形を効果的に防ぐことができ、これは非常に重要です。炭化ケイ素はコランダムよりも高い機械的強度を持っています。たとえば、炭化ケイ素の圧縮強度は 224MPa ですが、コランダムの圧縮強度は 75.7MPa にすぎません。炭化ケイ素の曲げ強度は15.5MPa、コランダムの曲げ強度は8.72MPaです。
(2) 高硬度、耐摩耗性
炭化ケイ素の硬度は非常に高く、モースノッチ硬度によると9.2～9.6で、ダイヤモンドや炭化ホウ素に次ぎ、コランダムよりも高いため、一般的な研削や振とうにおいては最高のものの一つです。金属鋼材に比べて硬度が高いだけでなく、無潤滑状態での摩擦係数が小さく、摩擦が比較的小さく、表面粗さが小さく、耐摩耗性が良好です。外部材料は強い耐衝撃性を備えていることに加えて、表面支持力を向上させます。
(3) 低密度
炭化ケイ素は金属よりも密度が低いため、装置が軽量になります。
会社
Wei Tai Energy Technology Co., Ltd. (Miami Advanced Materials Technology Co., Ltd) は、先進的な半導体セラミックスの大手サプライヤーであり、高純度の炭化ケイ素セラミックス (特に再結晶化 SiC) と高純度の炭化ケイ素セラミックスを同時に提供できる中国唯一のメーカーです。 CVD SiC コーティング。また、当社はアルミナ、窒化アルミニウム、ジルコニア、窒化珪素等のセラミックス分野にも力を入れております。
当社の主な製品には、炭化ケイ素エッチングディスク、炭化ケイ素ボート牽引、炭化ケイ素ウェーハボート（太陽光発電および半導体）、炭化ケイ素炉管、炭化ケイ素カンチレバーパドル、炭化ケイ素チャック、炭化ケイ素ビーム、CVD SiCコーティングおよびTaCが含まれます。コーティング。結晶成長、エピタキシー、エッチング、パッケージング、コーティング、拡散炉などの装置など、主に半導体および太陽光発電産業で使用される製品。
当社は、成形、焼結、加工、コーティング設備などの完全な生産設備を備えており、製品生産に必要なすべてのリンクを完了でき、製品の品質のより高い制御性を備えています。製品のニーズに応じて最適な生産計画を選択できるため、コストを削減し、より競争力のある製品をお客様に提供できます。当社は、注文の配送要件に基づいて、オンライン注文管理システムと連携して、柔軟かつ効率的に生産スケジュールを設定することができ、より迅速で保証された納期をお客様に提供します。
