バルクCVD SiCリング

RTPCVD SiCリング高温および腐食環境の産業および科学分野で広く使用されています。半導体製造、オプトエレクトロニクス、精密機械、化学産業において重要な役割を果たしています。具体的な用途には次のようなものがあります。

1. 半導体製造:RTP CVD SiC リング半導体装置の加熱と冷却に使用でき、安定した温度制御を提供し、プロセスの精度と一貫性を保証します。

2. オプトエレクトロニクス：優れた熱伝導率と高温耐性により、RTPCVD SiCリングレーザー、光ファイバー通信機器、光学部品の支持材や放熱材として使用できます。

3. 精密機械: RTP CVD SiC リングは、高温炉、真空装置、化学反応器など、高温および腐食環境にある精密機器や装置に使用できます。

4. 化学産業: RTP CVD SiC リングは、その耐食性と化学的安定性により、化学反応や触媒プロセスのコンテナ、パイプ、反応器に使用できます。