CVD炭化ケイ素SiCエッチングリング

簡単な説明:

セミセラは高品質のCVDシリコンカーバイド(SiC)エッチングリングとカスタマイズサービスを提供します。当社のCVDシリコンカーバイド(SiC)エッチングリングは優れた品質と性能を備えており、安定したエッチング性能と優れたエッチング結果を提供するエッチングステップ向けに設計されています。セミセラは、中国でお客様と長期的なパートナーシップを築くことを楽しみにしています。

 

 

 


製品詳細

製品タグ

なぜCVD SiCエッチングリングなのか?

CVD 炭化ケイ素(SiC) エッチング リングは、化学気相成長 (CVD) 法を使用して炭化ケイ素 (SiC) から作られた特殊な部品です。 CVD 炭化ケイ素 (SiC) エッチング リングは、さまざまな産業用途、特に材料のエッチングを伴うプロセスで重要な役割を果たします。炭化ケイ素は、高硬度、優れた熱伝導率、過酷な化学環境に対する耐性などの優れた特性で知られるユニークな先進セラミック材料です。

化学蒸着プロセスには、制御された環境で基板上に SiC の薄層を堆積することが含まれており、その結果、高純度で精密に設計された材料が得られます。 CVD 炭化ケイ素は、その均一で緻密な微細構造、優れた機械的強度、および強化された熱安定性で知られています。

CVD 炭化ケイ素(SiC) エッチング リングは CVD 炭化ケイ素で作られており、優れた耐久性を保証するだけでなく、化学的腐食や極端な温度変化にも耐えます。このため、精度、信頼性、寿命が重要な用途に最適です。

 

私たちの利点、なぜセミセラを選ぶのですか?

✓中国市場でトップクラスの品質

 

✓いつでも7*24時間、優れたサービスを提供します

 

✓短納期

 

✓少量のMOQを歓迎し受け入れます

 

✓カスタムサービス

石英製造装置 4

応用

エピタキシー成長用サセプタ

シリコン/炭化ケイ素ウェーハを電子デバイスに使用するには、複数のプロセスを経る必要があります。重要なプロセスはシリコン/SIC エピタキシーです。このプロセスでは、シリコン/SIC ウェーハがグラファイト ベース上に運ばれます。 Semicera の炭化ケイ素でコーティングされたグラファイト ベースの特別な利点には、非常に高い純度、均一なコーティング、および非常に長い耐用年数が含まれます。また、高い耐薬品性と熱安定性も備えています。

 

LEDチップの製造

MOCVD リアクターの広範なコーティング中に、遊星ベースまたはキャリアが基板ウェーハを移動させます。母材の性能はコーティングの品質に大きな影響を与え、ひいてはチップのスクラップ率に影響を与えます。 Semicera の炭化ケイ素でコーティングされたベースは、高品質 LED ウェーハの製造効率を高め、波長の偏差を最小限に抑えます。また、現在使用されているすべての MOCVD リアクター用に追加のグラファイト コンポーネントも供給しています。ほぼすべてのコンポーネントを炭化ケイ素コーティングでコーティングできます。コンポーネントの直径が最大 1.5M であっても、炭化ケイ素でコーティングできます。

半導体分野、酸化拡散プロセス、など。

半導体プロセスでは、酸化膨張プロセスに高い製品純度が必要です。セミセラでは、大部分の炭化ケイ素部品に対してカスタムおよび CVD コーティング サービスを提供しています。

以下の写真は、粗加工されたSemiceaの炭化ケイ素スラリーと100分間洗浄された炭化ケイ素炉管を示しています。0-レベル埃のない部屋。当社の職人は塗装前の作業を行っております。当社の炭化ケイ素の純度は99.99%に達し、SICコーティングの純度は99.99995%以上です。

コーティング前の炭化ケイ素半製品-2

洗浄中の生の炭化ケイ素パドルと SiC プロセス チューブ

SiCチューブ

炭化ケイ素ウェーハボート CVD SiC コーティング

セミセラのCVD SiC性能データ。

セミセラCVD SiCコーティングデータ
シックの純粋さ
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セミセラ作業場2
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設備機械
CNN加工、薬液洗浄、CVDコーティング
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