CVD 炭化ケイ素(SiC) エッチング リングは、化学気相成長 (CVD) 法を使用して炭化ケイ素 (SiC) から作られた特殊な部品です。 CVD 炭化ケイ素 (SiC) エッチング リングは、さまざまな産業用途、特に材料のエッチングを伴うプロセスで重要な役割を果たします。炭化ケイ素は、高硬度、優れた熱伝導率、過酷な化学環境に対する耐性などの優れた特性で知られるユニークな先進セラミック材料です。
化学蒸着プロセスには、制御された環境で基板上に SiC の薄層を堆積することが含まれており、その結果、高純度で精密に設計された材料が得られます。 CVD 炭化ケイ素は、その均一で緻密な微細構造、優れた機械的強度、および強化された熱安定性で知られています。
CVD 炭化ケイ素(SiC) エッチング リングは CVD 炭化ケイ素で作られており、優れた耐久性を保証するだけでなく、化学的腐食や極端な温度変化にも耐えます。このため、精度、信頼性、寿命が重要な用途に最適です。
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エピタキシー成長用サセプタ
シリコン/炭化ケイ素ウェーハを電子デバイスに使用するには、複数のプロセスを経る必要があります。重要なプロセスはシリコン/SIC エピタキシーです。このプロセスでは、シリコン/SIC ウェーハがグラファイト ベース上に運ばれます。 Semicera の炭化ケイ素でコーティングされたグラファイト ベースの特別な利点には、非常に高い純度、均一なコーティング、および非常に長い耐用年数が含まれます。また、高い耐薬品性と熱安定性も備えています。
LEDチップの製造
MOCVD リアクターの広範なコーティング中に、遊星ベースまたはキャリアが基板ウェーハを移動させます。母材の性能はコーティングの品質に大きな影響を与え、ひいてはチップのスクラップ率に影響を与えます。 Semicera の炭化ケイ素でコーティングされたベースは、高品質 LED ウェーハの製造効率を高め、波長の偏差を最小限に抑えます。また、現在使用されているすべての MOCVD リアクター用に追加のグラファイト コンポーネントも供給しています。ほぼすべてのコンポーネントを炭化ケイ素コーティングでコーティングできます。コンポーネントの直径が最大 1.5M であっても、炭化ケイ素でコーティングできます。
半導体分野、酸化拡散プロセス、など。
半導体プロセスでは、酸化膨張プロセスに高い製品純度が必要です。セミセラでは、大部分の炭化ケイ素部品に対してカスタムおよび CVD コーティング サービスを提供しています。
以下の写真は、粗加工されたSemiceaの炭化ケイ素スラリーと100分間洗浄された炭化ケイ素炉管を示しています。0-レベル埃のない部屋。当社の職人は塗装前の作業を行っております。当社の炭化ケイ素の純度は99.99%に達し、SICコーティングの純度は99.99995%以上です。