私たちの目標は、通常、優れた品質の商品を積極的な料金で提供し、世界中の顧客に一流の企業を提供することです。当社は ISO9001、CE、GS 認証を取得しており、Sisic 反応焼結炭化ケイ素バーナー チューブ工場向けの高品質仕様を厳格に遵守しており、顧客満足が当社の主な目標です。私たちとのビジネス関係を確立することを歓迎します。さらに詳しい情報につきましては、お気軽にお問い合わせください。
私たちの目標は、通常、優れた品質の商品を積極的な料金で提供し、世界中の顧客に一流の企業を提供することです。当社は ISO9001、CE、GS の認証を取得しており、その優れた品質仕様を厳格に遵守しています。中国 耐火セラミックスと反応骨炭化ケイ素, 当社は「最高の商品と優れたサービスで顧客を魅了する」という理念を貫いています。私たちは、世界中の顧客、企業団体、友人が私たちに連絡し、相互利益のための協力を求めることを歓迎します。
当社は、4 インチから 6 インチの半導体ウェーハ業界向けに、安定した信頼性の高い炭化ケイ素結晶ボート、炭化ケイ素パドル、炭化ケイ素炉管を提供できます。ウェーハを汚染することなく、純度は 99.9% に達します。
炭化ケイ素炉管は主に、4 ～ 6 インチのシリコン ウェーハ LTO= シリカ、SIPOS= オキシポリシリコン、SI3N4= 窒化ケイ素、PSG= リンシリコン ガラス、POLY= ポリシリコン膜の成長に使用されます。原料ガス（または液体原料ガス化）を熱エネルギーにより活性化し、基板表面に固体膜を生成するものです。低圧化学気相成長法は、低圧で行われ、圧力が低いためガス分子の平均自由行程が大きく、成長膜の均一性が良く、基板を垂直に設置することができ、成膜量を増やすことができます。負荷が大きく、特に大規模集積回路、ディスクリートデバイス、パワーエレクトロニクス、オプトエレクトロニクスデバイス、光ファイバおよびその他の産業用特殊装置の工業生産に適しています。
Semicera Energy Technology Co., Ltd は、炭化ケイ素セラミック製品の研究、開発、生産、販売を専門としています。セミセラエナジーは2016年の設立以来、静水圧プレス成形工程、サウザンドプレス成形工程、グラウト成形工程、真空押出成形工程を習得してきました。当社は6つの炭化ケイ素セラミック焼結生産ラインを使用し、8台のCNC、6台の精密研削盤を備えており、炭化ケイ素セラミック焼結製品を提供することもできますが、炭化ケイ素セラミックス、アルミナセラミックス、窒化アルミニウムセラミックス、ジルコニアセラミックス加工サービスも提供できます。 。
私たちの目標は、通常、優れた品質の商品を積極的な料金で提供し、世界中の顧客に一流の企業を提供することです。当社は ISO9001、CE、GS 認証を取得しており、Sisic 反応焼結炭化ケイ素バーナー チューブ工場向けの高品質仕様を厳格に遵守しており、顧客満足が当社の主な目標です。私たちとのビジネス関係を確立することを歓迎します。さらに詳しい情報につきましては、お気軽にお問い合わせください。
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