当社の特典は、販売価格の削減、ダイナミックな収益チーム、専門のQC、頑丈な工場、IOS証明書高温/炭化ケイ素セラミック/Sicセラミックプレートの優れた品質のサービスです。当社の製品とソリューションは、バイヤーの間で素晴らしい人気を誇っています。私たちは、世界中のあらゆる地域からの見込み客、企業団体、親しい友人が私たちに連絡し、相互利益のための協力を求めることを歓迎します。
私たちの報酬は、販売価格の削減、ダイナミックな収益チーム、専門のQC、頑丈な工場、優れた品質のサービスです。中国炭化ケイ素キルンプレートと炭化ケイ素プレート, 私たちの使命は「信頼できる品質とリーズナブルな価格で製品とソリューションを提供する」です。将来のビジネス関係と相互の成功を実現するために、世界中のあらゆる地域からのお客様が私たちに連絡することを歓迎します。
窒化ケイ素結合炭化ケイ素
Si3N4結合SiCセラミック耐火物は、高純度のSIC微粉末とシリコン粉末を混合し、スリップキャスティングコースの後、1400〜1500℃で反応焼結します。焼結過程で高純度窒素を炉内に充填すると、シリコンは窒素と反応してSi3N4を生成します。そのため、Si3N4結合SiC材料は、主原料として窒化ケイ素（23％）と炭化ケイ素（75％）で構成されます。有機材料と混合し、混合、押出、または流し込みによって成形し、乾燥および窒素化後に製造されます。
特徴と利点:
1. 高温耐性
2.高い熱伝導性と耐衝撃性
3.高い機械的強度と耐摩耗性
4.優れたエネルギー効率と耐食性
当社は、高品質で精密な加工を施したNSiCセラミック部品を提供します。
1.スリップキャスティング
2.押出加工
3.ユニアキシャルプレス
4.静水圧プレス
材料データシート
| >化学組成 | シック | 75% |
| Si3N4 | ≥23% | |
| フリーシ | 0% | |
| かさ密度(g/cm3) | 2.70～2.80 | |
| 見掛け気孔率(%) | 12～15 | |
| 20℃における曲げ強さ(MPa) | 180～190 | |
| 1200℃における曲げ強さ(MPa) | 207 | |
| 1350℃における曲げ強さ(MPa) | 210 | |
| 20℃における圧縮強度(MPa) | 580 | |
| 1200℃における熱伝導率(w/mk) | 19.6 | |
| 1200℃における熱膨張係数(×10-6/℃) | 4.70 | |
| 耐熱衝撃性 | 素晴らしい | |
| 最大。温度(℃) | 1600 | |
WeiTai Energy Technology Co., Ltd. は、先進的な半導体セラミックスの大手サプライヤーであり、高純度の炭化ケイ素セラミックス (特に再結晶化 SiC) と CVD SiC コーティングを同時に提供できる中国唯一のメーカーです。また、当社はアルミナ、窒化アルミニウム、ジルコニア、窒化珪素等のセラミックス分野にも力を入れております。
当社の主力製品には、炭化ケイ素エッチングディスク、炭化ケイ素ボート牽引、炭化ケイ素ウェーハボート（太陽光発電および半導体）、炭化ケイ素炉管、炭化ケイ素カンチレバーパドル、炭化ケイ素チャック、炭化ケイ素ビーム、CVD SiCコーティングおよびTaCが含まれます。コーティング。結晶成長、エピタキシー、エッチング、パッケージング、コーティング、拡散炉などの装置など、主に半導体および太陽光発電産業で使用される製品。
当社は、成形、焼結、加工、コーティング設備などの完全な生産設備を備えており、製品生産に必要なすべてのリンクを完了でき、製品の品質のより高い制御性を備えています。製品のニーズに応じて最適な生産計画を選択できるため、コストを削減し、より競争力のある製品をお客様に提供できます。当社は、注文の配送要件に基づいて、オンライン注文管理システムと連携して、柔軟かつ効率的に生産スケジュールを設定することができ、より迅速で保証された納期をお客様に提供します。
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