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半導体プロセスと装置(4/7) - フォトリソグラフィープロセスと装置
1 つの概要 集積回路の製造プロセスにおいて、フォトリソグラフィーは集積回路の集積レベルを決定する中心的なプロセスです。このプロセスの機能は、マスク (マスクとも呼ばれます) から回路グラフィック情報を忠実に送信および転送することです。続きを読む -
炭化ケイ素角トレーとは
炭化ケイ素角トレイは、半導体製造および加工用に設計された高性能搬送ツールです。主にシリコンウェーハや炭化ケイ素ウェーハなどの精密材料の搬送に使用されます。非常に高い硬度、高温耐性、化学的耐性により、...続きを読む -
炭化ケイ素トレイとは
SiC トレイとしても知られる炭化ケイ素トレイは、半導体製造プロセスでシリコン ウェーハを運ぶために使用される重要な材料です。炭化ケイ素は、高硬度、高温耐性、耐食性などの優れた特性を備えているため、徐々に従来の炭化ケイ素に取って代わりつつあります。続きを読む -
半導体プロセスと装置（3/7）-加熱プロセスと装置
1. 概要 熱処理とも呼ばれる加熱は、通常はアルミニウムの融点よりも高い高温で行われる製造手順を指します。加熱プロセスは通常、高温炉で行われ、酸化、酸化などの主要なプロセスが含まれます。続きを読む -
半導体技術と装置(2/7) - ウェーハの準備と処理
ウェーハは、集積回路、ディスクリート半導体デバイス、パワーデバイスを製造するための主な原材料です。集積回路の 90% 以上は高純度、高品質のウェーハ上に作られています。ウェーハ準備装置は、純粋な多結晶シリコンを製造するプロセスを指します。続きを読む -
RTPウェハキャリアとは何ですか?
半導体製造におけるその役割を理解する 高度な半導体処理における RTP ウェーハキャリアの本質的な役割を探る 半導体製造の世界では、現代のエレクトロニクスに動力を供給する高品質デバイスを製造するために、精度と制御が極めて重要です。の1つ...続きを読む -
エピキャリアとは何ですか?
エピタキシャル ウェーハ処理における重要な役割を探る 高度な半導体製造におけるエピ キャリアの重要性を理解する 半導体業界では、高品質のエピタキシャル (エピ) ウェーハの生産は、デバイス製造における重要なステップです。続きを読む -
半導体プロセスと装置 (1/7) – 集積回路製造プロセス
1.集積回路について 1.1 集積回路の概念と誕生 集積回路 (IC): トランジスタやダイオードなどの能動素子と、抵抗やコンデンサなどの受動素子を一連の特定の処理技術によって組み合わせたデバイスを指します。続きを読む -
エピパンキャリアとは何ですか？
半導体業界は、高品質の電子デバイスを製造するために高度に専門化された装置に依存しています。エピタキシャル成長プロセスにおけるそのような重要なコンポーネントの 1 つは、エピパンキャリアです。この装置は、半導体ウェーハ上にエピタキシャル層を堆積する際に極めて重要な役割を果たします。続きを読む -
MOCVDサセプターとは何ですか?
MOCVD 法は、単相 InGaN エピ層、III-N 材料、多重量子井戸構造の半導体膜などの高品質の単結晶薄膜を成長させるために現在業界で使用されている最も安定したプロセスの 1 つであり、非常に重要です。 ...続きを読む -
SiCコーティングとは何ですか？
炭化ケイ素 (SiC) コーティングは、その優れた物理的および化学的特性により、さまざまな高性能用途に急速に不可欠なものになりつつあります。 SiC コーティングは、物理蒸着または化学蒸着 (CVD) などの技術、またはスプレー法によって適用され、表面の形状を変化させます。続きを読む -
MOCVDウエハキャリアとは何ですか?
半導体製造の分野では、MOCVD (有機金属化学気相成長) 技術が急速に重要なプロセスになりつつあり、MOCVD ウェーハキャリアはその中核コンポーネントの 1 つです。 MOCVD ウェーハキャリアの進歩は、その製造プロセスに反映されるだけでなく...続きを読む