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ウェーハの研磨方法にはどのようなものがありますか?
チップの作成に必要なすべてのプロセスのうち、ウェーハの最終的な運命は、個々のダイに切断され、数本のピンだけが露出した小さな密閉箱にパッケージされることです。チップはそのしきい値、抵抗、電流、電圧の値に基づいて評価されますが、誰も考慮しません...続きを読む -
SiCエピタキシャル成長プロセスの基礎入門
エピタキシャル層とは、エピタキシャル法によりウェーハ上に成長させた特定の単結晶膜のことで、基板ウェーハとエピタキシャル膜を合わせてエピタキシャルウェーハと呼ばれます。導電性炭化珪素基板上に炭化珪素エピタキシャル層を成長させることにより、均質な炭化珪素エピタキシャル...続きを読む -
半導体パッケージング工程の品質管理のポイント
半導体パッケージングプロセスの品質管理のポイント 現在、半導体パッケージングのプロセス技術は大幅に向上、最適化されています。しかし、全体的な観点から見ると、半導体パッケージングのプロセスと方法はまだ完全なものには達していません。続きを読む -
半導体パッケージングプロセスにおける課題
現在の半導体パッケージング技術は徐々に改善されていますが、自動化された装置や技術が半導体パッケージングにどの程度採用されるかが、期待される成果の実現に直接影響します。既存の半導体パッケージングプロセスは依然として問題を抱えています...続きを読む -
半導体パッケージングプロセスの調査と分析
半導体プロセスの概要 半導体プロセスでは、主に微細加工技術とフィルム技術を適用して、基板やフレームなどのさまざまな領域内のチップやその他の要素を完全に接続します。これにより、リード端子の取り出しと樹脂による封止が容易になります。続きを読む -
半導体業界の新潮流：保護コーティング技術の応用
半導体産業は、特に炭化ケイ素 (SiC) パワーエレクトロニクスの分野で前例のない成長を遂げています。電気自動車用の SiC デバイスの需要の急増に対応するために、多くの大規模ウェーハ工場が建設または拡張中であるため、...続きを読む -
SiC 基板の処理の主な手順は何ですか?
SiC 基板の製造および加工手順は次のとおりです。 1. 結晶配向: X 線回折を使用して結晶インゴットを配向します。 X 線ビームが目的の結晶面に照射されると、回折ビームの角度によって結晶の方向が決まります。続きを読む -
単結晶シリコン成長の品質を決定する重要な材料 - 熱場
単結晶シリコンの成長プロセスは完全に熱場内で行われます。良好な熱場は結晶品質の向上に役立ち、結晶化効率が高くなります。熱場の設計が変化と変化を大きく決定します...続きを読む -
エピタキシャル成長とは何ですか?
エピタキシャル成長とは、単結晶基板（基板）上に、基板と同じ結晶方位を持った単結晶層を、あたかも元の結晶が外側に伸びているかのように成長させる技術です。この新しく成長した単結晶層は、結晶構造の点で基板とは異なる場合があります。続きを読む -
基板とエピタキシーの違いは何ですか?
ウェーハ準備プロセスには 2 つの主要なリンクがあります。1 つは基板の準備で、もう 1 つはエピタキシャル プロセスの実行です。基板は、半導体単結晶材料から慎重に作られたウェーハであり、ウェーハ製造工程に直接入れることができます。続きを読む -
グラファイトヒーターの多彩な特性を明らかに
グラファイトヒーターは、その優れた特性と多用途性により、さまざまな業界で不可欠なツールとして浮上しています。これらのヒーターは、研究室から工業環境に至るまで、材料合成から分析技術に至るまでのプロセスにおいて極めて重要な役割を果たしています。さまざまな中で...続きを読む -
ドライエッチングとウェットエッチングのメリット・デメリットを詳しく解説
半導体製造において、基板や基板上に形成された薄膜を加工する際に「エッチング」と呼ばれる技術があります。エッチング技術の発展は、1965 年にインテルの創設者ゴードン・ムーアが述べた「...続きを読む