半導体製造の分野では、ウェハーパドルの効率的かつ正確な取り扱いを保証する上で極めて重要な役割を果たします。ウエハースさまざまなプロセスの中で。主に、高温環境下でシリコンウェーハを搬送・搬送する拡散炉内での多結晶シリコンウェーハや単結晶シリコンウェーハの(拡散)コーティング工程に使用されます。
Semicera は、次のようなアプリケーションでの運用効率を向上させるように設計された最先端のウェーハ パドルを導入できることを誇りに思っています。CVD SiC.
のウェハーパドルは半導体製造プロセスの重要なコンポーネントとして機能し、化学気相成長 (CVD) やその他の重要なステップ中にウェーハに必要なサポートを提供します。 Semicera の高度なエンジニアリングにより、これらのパドルは最適な位置合わせと安定性を保証し、欠陥のリスクを軽減し、全体的な歩留まりを向上させます。当社のイノベーションへの取り組みは、各パドルが業界の厳しい要求を満たすために正確に作られることを意味します。
Semicera のウェハ パドルは、CVD SiC や SiC などのさまざまなコーティング プロセスと互換性があるように特別に設計されています。TACコーティング。高品質の材料の統合により耐久性と信頼性が保証され、高温環境に最適です。 Semicera のウェーハ パドルを利用することで、メーカーは厳しい品質基準を維持しながら優れた結果を達成できます。
要約すると、セミセラのウェハ パドルは半導体製造に不可欠なツールであり、ウェハ処理の効率と信頼性の両方を向上させます。製品提供の革新と拡大を続ける中、セミセラは、半導体業界の進化するニーズを満たす最先端のソリューションを提供することに専念し続けます。
投稿日時: 2024 年 9 月 25 日