半導体製造におけるSiCパドル

半導体製造の分野では、SiCパドル特にエピタキシャル成長プロセスにおいて重要な役割を果たします。で使用される主要なコンポーネントとしてMOCVD(有機金属化学気相成長) システム、SiCパドル高温や化学的に過酷な環境に耐えられるように設計されており、高度な製造には不可欠です。 Semicera では、高性能の製品の製造に特化しています。SiCパドル両方のために設計されたSiエピタキシーそしてSiCエピタキシー、優れた耐久性と熱安定性を提供します。

SiC パドルの使用は、基板に正確な熱的および化学的条件が必要なエピタキシャル成長などのプロセスで特に普及しています。当社のセミセラ製品は、要求される環境において最適なパフォーマンスを保証します。MOCVDサセプタここでは、高品質の炭化ケイ素層が基板上に堆積されます。これは改善に貢献しますウエハース半導体製造における品質の向上とデバイス効率の向上を実現します。

セミセラさんSiCパドルのために設計されているだけではありませんSiエピタキシーだけでなく、他のさまざまな重要なアプリケーションにも合わせて調整できます。たとえば、LED ウェーハの製造に不可欠な PSS エッチング キャリアと互換性があり、ICPエッチングキャリアここでは、ウェーハを成形するために正確なイオン制御が必要です。これらのパドルは次のようなシステムに不可欠です。RTPキャリア(急速熱処理)、素早い温度遷移と高い熱伝導率の必要性が最も重要です。

さらに、SiC パドルは LED エピタキシャル サセプタとして機能し、高効率 LED ウェーハの成長を促進します。さまざまな熱ストレスや環境ストレスに対処できるため、さまざまな半導体製造プロセスにわたって非常に汎用性が高くなります。

全体として、セミセラは、現代の半導体製造の厳しい要件を満たす SiC パドルを提供することに尽力しています。 SiC エピタキシーから MOCVD サセプターに至るまで、当社のソリューションは信頼性と性能の向上を保証し、業界の最先端の要求に応えます。