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半導体製造効率を高めるSiCコーティングホイールギヤ
急速に進歩する半導体製造分野では、高い歩留まりと品質を達成するには、装置の精度と耐久性が最も重要です。これを確実にする重要なコンポーネントの 1 つは、プロセスの効率を向上させるために設計された SiC コーティング ホイール ギアです。続きを読む -
石英保護管とは何ですか? |セミセラ
石英保護管は、さまざまな産業用途に不可欠な部品であり、極限状態でも優れた性能を発揮することで知られています。セミセラでは、過酷な環境下での高い耐久性と信頼性を実現するように設計された石英保護管を製造しています。抜群の性格で…続きを読む -
CVDコーティングプロセスチューブとは何ですか? |セミセラ
CVD コーティングされたプロセス チューブは、半導体や太陽光発電の生産など、さまざまな高温および高純度の製造環境で使用される重要なコンポーネントです。 Semicera では、優れた品質を提供する高品質 CVD コーティングされたプロセス チューブの製造を専門としています。続きを読む -
等方性グラファイトとは何ですか? |セミセラ
等方圧グラファイトは、等方的に形成されたグラファイトとしても知られ、冷間等方圧プレス (CIP) と呼ばれるシステムで原料の混合物を長方形または円形のブロックに圧縮する方法を指します。冷間静水圧プレスは、冷間静水圧プレス加工法です。続きを読む -
炭化タンタルとは何ですか? |セミセラ
炭化タンタルは、特に高温環境における優れた特性で知られる非常に硬いセラミック材料です。 Semicera では、極限の用途に高度な材料を必要とする業界に優れた性能を提供する最高品質の炭化タンタルを提供することに特化しています。続きを読む -
石英炉心管とは何ですか? |セミセラ
石英炉コアチューブは、さまざまな高温処理環境において不可欠なコンポーネントであり、半導体製造、冶金、化学処理などの業界で広く使用されています。 Semicera では、高品質の石英炉コア チューブの製造を専門としています。続きを読む -
ドライエッチング工程
ドライエッチングプロセスは通常、エッチング前、部分エッチング、ジャストエッチング、オーバーエッチングの 4 つの基本状態で構成されます。主な特性は、エッチング速度、選択性、最小寸法、均一性、および終点検出です。 図1 エッチング前 図2 部分エッチング 図...続きを読む -
半導体製造におけるSiCパドル
半導体製造の分野では、特にエピタキシャル成長プロセスにおいて、SiC パドルは重要な役割を果たします。 MOCVD (有機金属化学気相成長) システムで使用される主要コンポーネントとして、SiC パドルは高温や高温に耐えるように設計されています。続きを読む -
ウェハーパドルとは何ですか? |セミセラ
ウェーハパドルは、半導体および太陽光発電産業で高温プロセス中にウェーハを取り扱うために使用される重要なコンポーネントです。 Semicera では、お客様の厳しい要求を満たす最高品質のウェーハ パドルを製造する高度な能力に誇りを持っています。続きを読む -
半導体プロセスと装置(7/7) - 薄膜成長プロセスと装置
1. はじめに 物理的または化学的方法によって基板材料の表面に物質（原材料）を付着させるプロセスは、薄膜成長と呼ばれます。さまざまな動作原理に従って、集積回路の薄膜堆積は次のように分類できます。 - 物理蒸着（パ...続きを読む -
半導体プロセスと装置(6/7) - イオン注入プロセスと装置
1. はじめに イオン注入は、集積回路製造における主要プロセスの 1 つです。これは、イオン ビームを特定のエネルギー (一般に keV から MeV の範囲) まで加速し、それを固体材料の表面に注入して物理的性質を変化させるプロセスを指します。続きを読む -
半導体プロセスと装置(5/7)-エッチングプロセスと装置
はじめに 集積回路製造プロセスにおけるエッチングは、 - ウェット エッチング、 - ドライ エッチングに分けられます。当初はウェットエッチングが多用されていましたが、線幅制御やエッチング方向性の限界から、3μm以降のプロセスではドライエッチングが主流となっています。ウェットエッチングって…続きを読む