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半導体プロセスと装置（3/7）-加熱プロセスと装置
1. 概要 熱処理とも呼ばれる加熱は、通常はアルミニウムの融点よりも高い高温で行われる製造手順を指します。加熱プロセスは通常、高温炉で行われ、酸化、酸化などの主要なプロセスが含まれます。続きを読む -
半導体技術と装置(2/7) - ウェーハの準備と処理
ウェーハは、集積回路、ディスクリート半導体デバイス、パワーデバイスを製造するための主な原材料です。集積回路の 90% 以上は高純度、高品質のウェーハ上に作られています。ウェーハ準備装置は、純粋な多結晶シリコンを製造するプロセスを指します。続きを読む -
RTPウェハキャリアとは何ですか?
半導体製造におけるその役割を理解する 高度な半導体処理における RTP ウェーハ キャリアの本質的な役割を探る 半導体製造の世界では、現代のエレクトロニクスに動力を供給する高品質のデバイスを製造するために、精度と制御が極めて重要です。の1つ...続きを読む -
エピキャリアとは何ですか?
エピタキシャル ウェーハ処理における重要な役割を探る 高度な半導体製造におけるエピ キャリアの重要性を理解する 半導体業界では、高品質のエピタキシャル (エピ) ウェーハの生産は、デバイス製造における重要なステップです。続きを読む -
半導体プロセスと装置 (1/7) – 集積回路製造プロセス
1.集積回路について 1.1 集積回路の概念と誕生 集積回路 (IC): トランジスタやダイオードなどの能動素子と、抵抗やコンデンサなどの受動素子を一連の特定の処理技術によって組み合わせたデバイスを指します。続きを読む -
エピパンキャリアとは何ですか？
半導体業界は、高品質の電子デバイスを製造するために高度に専門化された装置に依存しています。エピタキシャル成長プロセスにおけるそのような重要なコンポーネントの 1 つは、エピパンキャリアです。この装置は、半導体ウェーハ上にエピタキシャル層を堆積する際に極めて重要な役割を果たします。続きを読む -
MOCVDサセプターとは何ですか?
MOCVD 法は、単相 InGaN エピ層、III-N 材料、多重量子井戸構造の半導体膜などの高品質の単結晶薄膜を成長させるために現在業界で使用されている最も安定したプロセスの 1 つであり、非常に重要です。 ...続きを読む -
SiCコーティングとは何ですか？
炭化ケイ素SiCコーティングとは何ですか?炭化ケイ素 (SiC) コーティングは、高温および化学反応性の環境において優れた保護と性能を提供する革新的な技術です。この高度なコーティングは、次のようなさまざまな素材に適用されます。続きを読む -
MOCVDウエハキャリアとは何ですか?
半導体製造の分野では、MOCVD (有機金属化学気相成長) 技術が急速に重要なプロセスになりつつあり、MOCVD ウェーハキャリアはその中核コンポーネントの 1 つです。 MOCVD ウェーハキャリアの進歩は、その製造プロセスに反映されるだけでなく...続きを読む -
炭化タンタルとは何ですか?
炭化タンタル (TaC) は、化学式 TaC x で表されるタンタルと炭素の二元化合物で、x は通常 0.4 ～ 1 の間で変化します。これらは、金属的な導電性を備えた非常に硬くて脆い耐火セラミック材料です。それらは茶色がかった灰色の粉末であり、私たち...続きを読む -
炭化タンタルとは何ですか
炭化タンタル (TaC) は、高温耐性、高密度、高コンパクト性を備えた超高温セラミック材料です。高純度、不純物含有量 <5PPM;高温でのアンモニアや水素に対する化学的不活性性、および良好な熱安定性。いわゆる超高級...続きを読む -
エピタキシーとは何ですか?
ほとんどのエンジニアは、半導体デバイスの製造で重要な役割を果たすエピタキシーについて馴染みがありません。エピタキシーはさまざまなチップ製品で使用でき、製品ごとに、Si エピタキシー、SiC エピタキシー、GaN エピタキシーなど、さまざまなタイプのエピタキシーがあります。エピタキシーとは何ですか?エピタキシー...続きを読む