SiCシャワーヘッド

セミセラは革新的な製品を発売しましたSiCシャワーヘッド、最新の半導体製造プロセスを確実にサポートします。独自の炭化ケイ素コーティングにより、シャワー ヘッドは高温および腐食環境において非常に耐久性があり、CVD プロセスでの材料の均一な堆積が保証されます。

高純度の石英を加工する場合や、ウエハースのデザインSiCシャワーヘッド蒸着効率を効果的に向上させ、欠陥率を低減できます。これにより、製造プロセスが最適化されるだけでなく、最終製品の品質も向上するため、半導体業界にとって理想的な選択肢となります。

また、シャワーヘッドは下記に対応しております。TACコーティング技術の適用範囲をさらに拡大します。セミセラの研究開発チームは、SiC シャワーヘッドの技術的リーダーシップと市場競争力を確保するために、継続的なイノベーションに取り組んでいます。

セミセラの選び方SiCシャワーヘッドを利用すると、CVD プロセスで最高の蒸着効果を達成するのに役立つ、効率的で信頼性の高いソリューションが得られます。セミセラは、業界の継続的な発展と革新を促進するために、顧客に高品質の半導体製品を提供することを常に主張しています。