ソリッドCVD SiCリング

簡単な説明:

ソリッドCVD SiCリングは炭化ケイ素（SiC）を主成分としており、優れた物理的・化学的特性を持っています。炭化ケイ素は、高融点、高硬度、耐食性に優れたセラミック材料です。高温下での熱伝導性、化学的安定性、機械的強度に優れ、耐摩耗性にも優れています。

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製品詳細

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なぜ固体CVD SiCリングなのか？

ソリッドCVD SiCリング高温、腐食性、摩耗性の環境における産業および科学分野で広く使用されています。これは、次のような複数のアプリケーション分野で重要な役割を果たします。

1. 半導体製造:ソリッドCVD SiCリング半導体装置の加熱と冷却に使用でき、安定した温度制御を提供してプロセスの精度と一貫性を確保します。

2. オプトエレクトロニクス：優れた熱伝導性と高温耐性により、ソリッドCVD SiCリングレーザー、光ファイバー通信機器、光学部品の支持材や放熱材として使用できます。

3. 精密機械: 固体 CVD SiC リングは、高温炉、真空装置、化学反応器など、高温および腐食環境にある精密機器や装置に使用できます。

4. 化学産業: 固体 CVD SiC リングは、その耐食性と化学的安定性により、化学反応や触媒プロセスのコンテナ、パイプ、反応器で使用できます。

私たちの利点、なぜセミセラを選ぶのですか？

✓中国市場でトップクラスの品質

✓いつでも7*24時間、優れたサービスを提供します

✓短納期

✓少量のMOQを歓迎し受け入れます

✓カスタムサービス

応用

エピタキシー成長用サセプタ

シリコン/炭化ケイ素ウェーハを電子デバイスに使用するには、複数のプロセスを経る必要があります。重要なプロセスはシリコン/SIC エピタキシーです。このプロセスでは、シリコン/SIC ウェーハがグラファイトベース上に運ばれます。 Semicera の炭化ケイ素でコーティングされたグラファイトベースの特別な利点には、非常に高い純度、均一なコーティング、および非常に長い耐用年数が含まれます。また、高い耐薬品性と熱安定性も備えています。

シリコンエピタキシーサセプタ

炭化ケイ素エピタキシーサセプタ

LEDチップの製造

MOCVD リアクターの広範なコーティング中に、遊星ベースまたはキャリアが基板ウェーハを移動させます。母材の性能はコーティングの品質に大きな影響を与え、ひいてはチップのスクラップ率に影響を与えます。 Semicera の炭化ケイ素でコーティングされたベースは、高品質 LED ウェーハの製造効率を高め、波長の偏差を最小限に抑えます。また、現在使用されているすべての MOCVD リアクター用に追加のグラファイトコンポーネントも供給しています。ほぼすべてのコンポーネントを炭化ケイ素コーティングでコーティングできます。コンポーネントの直径が最大 1.5M であっても、炭化ケイ素でコーティングできます。