ウェーハホルダー

ウェーハホルダーエピタキシープロセスでは不可欠なコンポーネントです。セミセラは、SiエピタキシーそしてSiCエピタキシー優れた設計と製造によるプロセス。当社のウェーハ ホルダーは、エピタキシー プロセス中にウェーハを正確に位置決めし、熱と空気流の分布の均一性を保証し、特に重要な役割を果たします。MOCVDサセプタそしてバレルサセプター。単結晶シリコン (Monocrystalline Silicon) の堆積であっても、複雑な化学蒸着プロセスであっても、セミセラのウェーハ ホルダーは高品質の結晶構造と安定したエピタキシャル層の成長を保証できます。

セミセラのウェハホルダーは高品質の耐高温材料で作られており、機械的強度と熱安定性が非常に高く、高温および複雑な化学環境下でも故障することなく長期間使用できます。特にSiエピタキシーそしてSiCエピタキシーセミセラのウェーハホルダーは、正確な制御と優れた材料選択により、プロセス中の不良率とウェーハロスを削減します。

カスタマイズされたものを提供しますウエハ特に MOCVD サセプタおよびバレル サセプタの用途における、さまざまなプロセスおよび装置要件に対応するホルダー。セミセラの製品は、装置の寿命を延ばすだけでなく、エピタキシープロセスの効率と安定性を向上させ、各ウェーハの生産が厳格な業界基準を確実に満たすようにします。

セミセラは、研究開発用でも量産用でも、SiエピタキシーおよびSiCエピタキシープロセスにおけるお客様のさまざまなニーズを満たす高性能ウェーハホルダーを提供することに常に取り組んでいます。当社は、お客様が半導体製造プロセスにおいて最高の製品品質とプロセス制御を確実に得られるよう、革新を続けています。