グラファイトベースのSiCコーティングプロセス SiCコーティンググラファイトキャリア

簡単な説明：

Semicera Energy Technology Co., Ltd. は、先進的な半導体セラミックスの大手サプライヤーです。当社の主な製品には、炭化ケイ素エッチングディスク、炭化ケイ素ボートトレーラー、炭化ケイ素ウェーハ船 (PV および半導体)、炭化ケイ素炉管、炭化ケイ素カンチレバーパドル、炭化ケイ素チャック、炭化ケイ素ビーム、CVD SiC コーティング、およびTaCコーティング。
製品は主に、結晶成長、エピタキシー、エッチング、パッケージング、コーティング、拡散炉装置などの半導体および太陽光発電産業で使用されています。

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製品の詳細

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説明

私たちは、適用する際に非常に厳密な公差を維持します。SiCコーティング、高精度の機械加工を使用して、均一なサセプタプロファイルを確保します。また、誘導加熱システムで使用するための理想的な電気抵抗特性を備えた材料も製造しています。すべての完成したコンポーネントには、純度および寸法準拠証明書が付属します。

当社が提供するのは、SiCコーティンググラファイト、セラミックス、その他の材料の表面にCVD法によるプロセスサービスを提供し、炭素とシリコンを含む特殊なガスを高温で反応させ、高純度のSiC分子を取得します。分子はコーティングされた材料の表面に堆積し、SIC保護層を形成します。形成された SIC はグラファイトベースにしっかりと結合し、グラファイトベースに特別な特性を与え、グラファイトの表面を緻密にし、気孔がなく、高温耐性、耐食性、耐酸化性を高めます。

ガールフレンド (1)

CVD プロセスは、非常に高い純度と理論上の密度を実現します。SiCコーティング多孔性がありません。また、炭化ケイ素は非常に硬いため、鏡面まで研磨することができます。CVD炭化ケイ素(SiC)コーティング超高純度の表面や極めて高い耐摩耗性など、いくつかの利点をもたらしました。コーティングされた製品は高真空および高温環境で優れた性能を発揮するため、半導体産業やその他の超クリーン環境でのアプリケーションに最適です。熱分解黒鉛（PG）製品も取り揃えております。