TaCコーティングは重要な材料コーティングであり、通常は有機金属化学気相成長 (MOCVD) 技術によってグラファイトベース上に作成されます。このコーティングは、高硬度、優れた耐摩耗性、高温耐性、化学的安定性などの優れた特性を備えており、要求の高いさまざまなエンジニアリング用途に適しています。
MOCVD 技術は、高温で有機金属前駆体と反応性ガスを反応させることにより、基板表面に目的の化合物膜を堆積する、一般的に使用される薄膜成長技術です。準備するときTaCコーティング適切な有機金属前駆体と炭素源を選択し、反応条件と堆積パラメーターを制御することで、均一で緻密な TaC 膜をグラファイト ベース上に堆積できます。
Semicera は、さまざまなコンポーネントやキャリア向けに特殊な炭化タンタル (TaC) コーティングを提供しています。Semicera の最先端のコーティング プロセスにより、炭化タンタル (TaC) コーティングが高純度、高温安定性、高い化学耐性を実現し、SIC/GAN 結晶と EPI 層の製品品質が向上します (グラファイトコーティングされたTaCサセプター）、主要な原子炉コンポーネントの寿命を延ばします。炭化タンタルTaCコーティングの使用は、エッジの問題を解決し、結晶成長の品質を向上させるためにあり、セミセラは炭化タンタルコーティング技術(CVD)を画期的に解決し、国際先進レベルに達しました。
TaCありとなし
TaC使用後（右）
また、セミセラのTaCコーティング製品に比べて、より長い耐用年数とより優れた高温耐性を示します。SiCコーティング.実験室での測定により、当社のTaCコーティング摂氏 2300 度までの温度で長期間安定して動作できます。以下にサンプルの例をいくつか示します。
