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半導体炭化ケイ素エピタキシャルディスクの探求: 性能上の利点と応用の見通し
今日のエレクトロニクス技術の分野では、半導体材料が重要な役割を果たしています。中でも炭化ケイ素（SiC）はワイドバンドギャップ半導体材料であり、高絶縁破壊電界、高い飽和速度、高速性などの優れた性能上の利点を備えています。続きを読む -
グラファイトハードフェルト – 革新的な素材、科学技術の新時代を開く
新素材グラファイトハードフェルトのため、その製造プロセスは非常にユニークです。混合およびフェルト化のプロセス中に、グラフェン繊維とガラス繊維が相互作用して、グラフェンの高い導電性と高い強度の両方を保持する新しい材料を形成します。続きを読む -
半導体炭化ケイ素（SiC）ウェーハとは
半導体炭化ケイ素 (SiC) ウェーハは、近年徐々に登場し、その独特の物理的および化学的特性を備えた新素材であり、半導体産業に新たな活力をもたらしています。単結晶を原料としたSiCウエハーは丁寧に製造されます。続きを読む -
炭化ケイ素ウェーハの製造プロセス
炭化珪素ウエハは、高純度珪素粉末と高純度炭素粉末を原料とし、物理気相移動法（PVT）により炭化珪素結晶を成長させて炭化珪素ウエハに加工したものです。 1.原料合成：高純度シリコン...続きを読む -
炭化ケイ素の歴史と炭化ケイ素コーティングの応用
炭化ケイ素 (SiC) の開発と応用 1. SiC のイノベーションの 1 世紀 炭化ケイ素 (SiC) の歴史は 1893 年に始まり、エドワード・グッドリッチ・アチソンが炭素材料を使用して SiC の工業生産を達成したアチソン炉を設計しました。 ..続きを読む -
炭化ケイ素コーティング: 材料科学における新たなブレークスルー
科学技術の発展に伴い、新素材の炭化ケイ素コーティングは私たちの生活を少しずつ変えています。物理的または化学的蒸着、スプレーなどの方法で部品の表面に形成されるこのコーティングは、大きな注目を集めています。続きを読む -
SiC コーティングされたグラファイトバレル
MOCVD 装置の中核コンポーネントの 1 つであるグラファイト ベースは、基板のキャリアおよび加熱体であり、膜材料の均一性と純度を直接決定します。そのため、その品質はエピタキシャル シートの製造および製造工程に直接影響します。 ..続きを読む -
炭化ケイ素コーティングの製造方法
現在、SiC コーティングの作製方法には主にゲルゾル法、埋め込み法、ブラシコーティング法、プラズマ溶射法、化学ガス反応法 (CVR) および化学蒸着法 (CVD) が含まれます。埋め込み方法: この方法は一種の高度なものです。続きを読む -
弊社（ Semicera ）のパートナーである SAN'an Optoelectronics の株価上昇おめでとうございます
10月24日 -- 三安オプトエレクトロニクスの株価は、中国の半導体メーカーが同社の炭化ケイ素工場が完成すれば、スイスのハイテク大手STマイクロエレクトロニクスとの同社の自動車チップ合弁事業に供給されると発表した後、今日3.8倍まで上昇した。 。続きを読む -
炭化ケイ素エピタキシャル技術のブレークスルー：中国におけるケイ素/炭化物エピタキシャル・リアクター製造の先頭に立つ
当社は、炭化ケイ素エピタキシー技術における当社の専門知識における画期的な成果を発表できることを嬉しく思います。当社の工場は、シリコン/カーバイドエピタキシャルリアクターを製造できる中国の大手メーカーの1つであることを誇りに思っています。卓越した品質へのこだわりにより...続きを読む -
新たな進歩：当社は炭化タンタルコーティング技術を征服し、部品の寿命を延ばし、歩留まりを向上させました
浙江省、2023 年 10 月 20 日 – 技術進歩に向けた大きな進歩の中で、当社は炭化タンタル (TaC) コーティング技術の開発に成功したことを誇らしげに発表します。この画期的な成果は、業界に大幅な革命をもたらすことを約束します。続きを読む -
アルミナセラミックス構造部品の使用上の注意
近年、アルミナセラミックスは、計測機器、食品医療、太陽光発電、機械・電気機器、レーザー半導体、石油機械、自動車軍事産業、航空宇宙などのハイエンド分野で広く使用されています。続きを読む