半導体SiCコーティング単結晶シリコンエピタキシャルディスク

簡単な説明:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. は、ウェーハおよび最先端の半導体消耗品を専門とする大手サプライヤーです。当社は、半導体製造に高品質で信頼性の高い革新的な製品を提供することに専念しています。太陽光発電産業およびその他の関連分野。

当社の製品ラインには、炭化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウムなどのさまざまな材料を含む、SiC/TaCコーティングされたグラファイト製品やセラミック製品が含まれます。

信頼できるサプライヤーとして、当社は製造プロセスにおける消耗品の重要性を理解しており、お客様のニーズを満たすために最高の品質基準を満たす製品を提供することに尽力しています。

 

 

製品の詳細

製品タグ

説明

当社が提供するのは、SiCコーティンググラファイト、セラミックス、その他の材料の表面にCVD法によるプロセスサービスを提供し、炭素とシリコンを含む特殊なガスを高温で反応させ、高純度のSiC分子、コーティングされた材料の表面に堆積した分子、SIC保護層.

 
単結晶シリコンエピタキシャルシート
PSS エッチング キャリア (3)

主な特徴

1. 高温酸化耐性:
1600℃もの高温でも耐酸化性は非常に良好です。
2. 高純度: 高温塩素化条件下での化学蒸着によって製造されます。
3.耐浸食性:高硬度、緻密な表面、微細な粒子。
4. 耐食性: 酸、アルカリ、塩および有機試薬。

CVD-SICコーティングの主な仕様

SiC-CVDの特性
結晶構造 FCC βフェーズ
密度 g/cm3 3.21
硬度 ビッカース硬さ 2500
粒度 μm 2~10
化学純度 % 99.99995
熱容量 J・kg-1・K-1 640
昇華温度 2700
感覚の強さ MPa(室温4点) 415
ヤング率 Gpa (4pt曲げ、1300℃) 430
熱膨張 (CTE) 10-6K-1 4.5
熱伝導率 (W/mK) 300
セミセラ作業所
セミセラ作業場2
設備機械
CNN加工、薬液洗浄、CVDコーティング
当社のサービス

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