半導体エッチング用SiCコーティングキャリア

簡単な説明:

Semicera Semiconductor Technology Co., Ltd. は、先進的な半導体セラミックスの大手サプライヤーです。当社の主な製品には、炭化ケイ素エッチングディスク、炭化ケイ素ボートトレーラー、炭化ケイ素ウェーハ船 (PV および半導体)、炭化ケイ素炉管、炭化ケイ素カンチレバーパドル、炭化ケイ素チャック、炭化ケイ素ビーム、CVD SiC コーティング、およびTaCコーティング。

製品は主に、結晶成長、エピタキシー、エッチング、パッケージング、コーティング、拡散炉装置などの半導体および太陽光発電産業で使用されています。

 

 


製品詳細

製品タグ

説明

当社は、グラファイトやセラミックスなどの材料表面に、炭素とシリコンを含む特殊ガスを高温で反応させ、高純度のSiC分子を得ることで、コーティング材料の表面に分子を堆積させ、CVD法によるSiCコーティング処理サービスを提供しています。 SIC保護層を形成します。

主な特長

1. 高温酸化耐性:
1600℃もの高温でも耐酸化性は非常に良好です。
2. 高純度 : 高温塩素化条件下での化学蒸着によって製造されます。
3.耐浸食性:高硬度、緻密な表面、微細な粒子。
4. 耐食性: 酸、アルカリ、塩および有機試薬。

CVD-SICコーティングの主な仕様

SiC-CVDの特性

結晶構造 FCC βフェーズ
密度 g/cm3 3.21
硬度 ビッカース硬さ 2500
粒度 μm 2~10
化学純度 % 99.99995
熱容量 J・kg-1・K-1 640
昇華温度 2700
感覚の強さ MPa(室温4点) 415
ヤング率 Gpa (4pt曲げ、1300℃) 430
熱膨張 (CTE) 10-6K-1 4.5
熱伝導率 (W/mK) 300
セミセラ作業所
セミセラ作業場2
設備機械
CNN加工、薬液洗浄、CVDコーティング
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